少量未處理的微?；蛘邭怏w分子可能嚴(yán)重影響一些工藝流程。請(qǐng)想象一下污染的空氣對(duì)半導(dǎo)體、制藥和其它高度敏感的制造工藝流程可能產(chǎn)生什么樣的危害。

先進(jìn)的生產(chǎn)方法通常要求非常潔凈的空氣環(huán)境，很多情況下，空氣要求還可能更加嚴(yán)格。例如，電子行業(yè)要求非常干凈的制造環(huán)境，以便生產(chǎn)大規(guī)模集成電路。由于電路板寬度可能只有1微米或者更少，這就要求將三維微粒污染控制在0.1微米以內(nèi)。

潔凈室的重點(diǎn)就是過(guò)濾設(shè)備，但根據(jù)不同的潔凈室類型，需要考慮使用不同的空氣過(guò)濾設(shè)備。

憑借15年以上的微電子和半導(dǎo)體污染控制技術(shù)行業(yè)經(jīng)驗(yàn)以及對(duì)“國(guó)際半導(dǎo)體科技進(jìn)程”的參與，我公司完全能夠提供好的解決方案，實(shí)現(xiàn)先進(jìn)的微粒和AMC控制。

我公司在已通過(guò)ISO9000認(rèn)證并嚴(yán)格控制生產(chǎn)環(huán)境的工廠內(nèi)專門生產(chǎn)HEPA/ULPA過(guò)濾器。我們?cè)谌蚨鄠€(gè)生產(chǎn)基地同時(shí)生產(chǎn)同一類型的空氣過(guò)濾器和風(fēng)淋室。大規(guī)模的生產(chǎn)能力確保我們的產(chǎn)品能夠隨時(shí)滿足世界各地的需求。

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